用正交试验法,对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标,以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计,并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察;利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。
结果表明:影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;
影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;
采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为:正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。
微弧氧化工艺
微弧氧化工艺技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化工艺技术工艺简单,对环境污染小,具备很大的优越性,它制备的膜层特点鲜明,膜层与基体金属属于冶金结合,结合牢固,在制备涂层方面具有明显优势,微弧氧化技术已被广泛应用于Al、Ti 和Mg等金属行业,是一种很有前景的表面处理工艺。
以上信息由专业从事铝合金微弧氧化加工厂家的日照微弧技术于2024/6/28 8:26:59发布
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