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实验室微弧氧化电源询价咨询「日照微弧技术」

来源:日照微弧技术 更新时间:2024-06-28 07:26:12

以下是实验室微弧氧化电源询价咨询「日照微弧技术」的详细介绍内容:

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首创!首创!五一期间,经精心工艺设计,圆满完成了超大钛合金工件的微弧氧化。该超大钛合金工件为钛合金材质,长度3.2米   ,直径1.1米,重量 1.5吨,结构复杂,微弧氧化的难度较大,技术人员牺牲了休息时间,刻苦攻关,终于实现了小功率电源做超大件微弧氧化的新突破。微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化应用、微弧氧化生产线、微弧氧化技术优势

什么是微弧氧化?微弧氧化膜层生长过程是怎样的?

微弧氧化技术(MAO)是在阳极氧化基础上发展起来的一项新技术,是在含有特定离子的电解液中,通过弧光放电处理和电化学氧化的共同作用,在铝、镁、钛等有色金属及其合金材料表面原位产生一层与基体结合良好的陶瓷层的表面处理技术,膜层具有耐蚀性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、绝热性能好等特点。

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用正交试验法,对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标,以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计,并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察;利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。

结果表明:影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;

影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;

采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为:正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。

负占空比对钛合金微弧氧化膜层的影响

恒压模式下,利用自制的多功能微弧氧化设备在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH电解液体系中制备了钛合金陶瓷膜,采用扫描电镜、X射线衍射仪等考察了负占空比(dc)对钛合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相组成及耐蚀性的影响。结果表明:随着dc的增加,膜层厚度减小;膜层表面呈典型的多孔陶瓷结构,随dc的增大,膜层表面微孔数量减少,孔径增大且有裂纹产生;膜层相组成主要为Ti、金红石及锐钛矿TiO2,在dc=45%时基体衍射峰消失。相对基体而言,膜层的硬度及耐蚀性都具有较大的提高;随dc增加,膜层硬度增强,耐蚀性有一定程度的减弱。

以上信息由专业从事实验室微弧氧化电源的日照微弧技术于2024/6/28 7:26:12发布

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