1温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10-90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。一般建议在20-60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。
2.时间对微弧氧化的影响
微弧氧化时间一般控制在10~60min。氧化时间越长，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
3.阴极材料
阴极材料可选用不锈钢，碳钢，镍等，可将上述材料悬挂使用或做成阴极槽体。
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微弧氧化过后，工件可不经过任何处理直接使用，也可进行封闭，电泳，抛光等后续处理。折叠
相比MoO3，加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍，比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。
此外，这2种添加剂的加入，均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层，起显色作用的物质是MoO2。
微弧氧化工艺流程
1、预处理
预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中，表面易发生氧化，生成一层几个微米的钝化膜，同时，其表面又极易吸附周围环境中的杂质，形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能，在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。
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以上信息由专业从事铝 镁合金微弧氧化设备的日照微弧技术于2025/1/10 21:46:25发布
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