相比MoO3,加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍,比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。
此外,这2种添加剂的加入,均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层,起显色作用的物质是MoO2。
微弧氧化技术工艺特点
微弧氧化从普通阳极氧化发展而来,其装置包括专门用的高压电源、氧化槽、冷却系统和搅拌系统。氧化液大多采用碱性溶液,对环境污染小。溶液温度以室温为宜,温度变化范围较宽。溶液温度对微弧氧化的影响比阳极氧化小得多,因为微弧区烧结温度达几千度,远高于槽温,而阳极氧化要求溶液温度较低,特别是硬质阳极氧化对溶液温度限制更为严格。微弧氧化工件的形状可以较复杂,部分内表面也可处理。此外,微弧氧化工艺流程比阳极氧化简单得多,也是此技术工艺特点之一。
微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔(孔径为几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可由几百至三千左右) 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,摩擦率为4.9*10 -7mm³/Nm,摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀(按)≥400h ,可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
以上信息由专业从事镁合金微弧氧化加工的日照微弧技术于2025/1/9 18:38:57发布
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