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微弧氧化电源原理图承诺守信 日照微弧氧化工艺

来源:日照微弧技术 更新时间:2025-03-19 13:59:05

以下是微弧氧化电源原理图承诺守信 日照微弧氧化工艺的详细介绍内容:

微弧氧化电源原理图承诺守信 日照微弧氧化工艺 [日照微弧技术)]"内容:

相比MoO3,加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍,比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。

此外,这2种添加剂的加入,均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层,起显色作用的物质是MoO2。

微弧氧化工艺流程

1、预处理

预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中,表面易发生氧化,生成一层几个微米的钝化膜,同时,其表面又极易吸附周围环境中的杂质,形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能,在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。

日照微弧技术有限公司秉承“真诚服务、信誉为先”的经营理念,非常注重产品质量,赢得了广大客户的一致好评,竭诚欢迎新老客户前来洽谈、惠顾!

微弧氧化膜的性能特点

1、硬度极高,可达1500-2000HV,比一般阳极氧化或电镀处理高许多。

2、耐磨性好。

3、耐腐蚀性好,耐中性盐雾可达2000h以上。

4、绝缘性能良好。

5、附着力良好将工件加热至300℃,立即浸入冷水中,反复数次都未发现氧化膜掉落。(内容仅供参考)

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以上信息由专业从事微弧氧化电源原理图的日照微弧技术于2025/3/19 13:59:05发布

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