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镁合金微弧氧化应用服务至上「日照微弧技术」

来源:日照微弧技术 更新时间:2024-12-16 17:14:57

以下是镁合金微弧氧化应用服务至上「日照微弧技术」的详细介绍内容:

镁合金微弧氧化应用服务至上「日照微弧技术」 [日照微弧技术)]"内容:

微弧氧化对镁合金的好处

随着装备轻量化要求和材料要求的不断提高,镁合金因具有低密度、高比强度、高比刚度、优异的阻尼减振降噪能力及电磁屏蔽性能等特点在航空航天、装备等领域应用前景广阔。微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)(北京市辐射中心)1992年起开发的科研课题,先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。微弧氧化表面处理、微弧氧化技术、但镁合金活泼的化学和电化学特性使其极易产生腐蚀,严重制约了镁合金的应用。在工程应用中,通常采微弧氧化用表面处理来提高镁合金的耐蚀性。微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化技术的特点

微弧氧化技术的应用越来越多,有多方面的优势,下面咱们一起了解一下。

1.微弧氧化技术大幅度地提高了材料的表面硬度,显微硬度在HV 800~2000,高可达HV 3000,可与硬质合金相媲美,大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度。

2.有良好的绝缘性能,绝缘电阻可达100MΩ。

3.基体原位生长氧化膜,氧化膜与基体属冶金结合,结合牢固,氧化膜致密均匀。

4.溶液为环保型,工艺过程中无任何污染,属环保型表面处理技术。

微弧氧化工艺的整流电源特点:

操作方式:本控远控操作模式可选择;

输出控制方式:直流、单极脉冲或双极脉冲输出控制模式可选择

恒流恒压、恒功率三种控制模式可选择

软启动时间:软启动工作时间可在0-2005范围内整定

整流方式:IGBT逆变软开关整流,PWM脉冲步调制IGBT斩波

脉冲步调频率范围:1000-8000Hz;

人机操作界面:PLC彩色触摸屏

主控制器:微弧氧化电源DSP微机数字触发控制,PWM脉宽调节控制,脉冲移相分辨率≤1μ。

溶液温度浓度对微弧氧化膜层性能的影响

1、微弧氧化溶液温度低时,氧化膜的生长速度较快,膜致密,性能较佳。但温度过低时,氧化作用较弱,膜厚和硬度值都较低。

2、微弧氧化溶液温度过高时,碱性电解液对氧化膜的溶解作用增强,致使膜厚与硬度显著下降,且溶液易飞溅,膜层也易被局部烧焦或击穿。所谓以微弧氧化溶液的温度一定要控制好,这样才可以提高微弧氧化膜层的性能。

3、溶液酸碱度:酸碱度过大或过小,溶解速度都加快,氧化膜生长速度减慢,所以一般选择弱碱性溶液。

4、溶液浓度:溶液浓度对氧化膜的成膜速率、表面颜色和粗糙度都有影响。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源

以上信息由专业从事镁合金微弧氧化应用的日照微弧技术于2024/12/16 17:14:57发布

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